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研磨及拋光

研磨和拋光步驟的目標是準備沒有變形且適合分析的最終拋光試樣。 這可以根據實驗室的總體目標以多種方式實現。 無論是實驗室尋求最快的整體工藝,最佳的表面光潔度還是多功能性來制備許多不同的材料,Buehler都能為您的研磨和拋光需求提供解決方案。
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  • 電壓/頻率84-264 VAC, 50/60 Hz, 單相
    重量Burst 組件: 5 lbs [2.26kg]階梯式基座: 10 lbs [4.35kg]
    尺寸帶瓶的Burst組件: 10.25 H x 6 W x 5.25in D [260 x 152 x 133mm]階梯式基座: 9 H x 6.5 W x 24.3in D [229 x 165 x 625mm]
  • 提供了許多用于樣品制備的不同磁性壓板系統,以方便在Buehler的研磨拋光機上使用不同的研磨和拋光表面。

  • 樣品夾具設計用于Buehler的磨拋機,以便于研磨拋光過程的優化和自動化。

  • 某些特殊的應用需要特定的耗材及解決方案。

  • 最終拋光懸浮液旨在去除表面變形的最后一層,并準備樣品進行分析。 肉眼可能看不到變形,但是對于某些標本分析技術,必須將其消除。

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